联电(UMC)宣布扩展与理光公司 (Ricoh Company)的合作关系，将使用90奈米制程技术为理光生产ASIC与影像处理器产品。理光将采用联电L90 (SP)标准效能低介电质组件制程，以满足其尖端产品线的速度与效能需求。

　　联电表示，此次90奈米的合作隶属于UMCJ业务范围，而收入也将纳入UMCJ营收。UMCJ将以外包方式运用联电的先进技术与量产服务。

　　联电在2003年 3月为客户产出第一个90奈米芯片。目前已有多项90奈米客户产品完全通过认证并量产。联电的90奈米制程技术结合了 9层铜金属层，三闸极氧化层与多重电压选择。
　　（转自　集成电路产业网新闻管理部）